プラズマクリーナー – CP-Plasner
半導体業界の未来を開くプラズマクリーニング
CP-Plasner®は13.56MHzの高周波を利用したプラズマ発生装置。主要分野は、電子顕微鏡などの表面観察・分析装置の真空容器内壁に付着した有機系コンタミネーションの除去です。
２つの特許技術で安定と安心を実現。
特許取得のガス流量調整バイブとプラズマ着火方法を採用。
クリーニングプロセス中は真空容器内の圧力変動がありません。
処理する薬膜のプロセス条件をお客様と協議し、最適な流量調整バイブを選択いたします。
- クリーニングプロセス中の圧力変動を無くしたため、RFの反射量が変動することなく、安定したプラズマを生成できます。
- クリーニング開始から終了までをワンボタンオペレーションで実現。複雑な操作は一切ございません。
- クリーニング条件はタッチパネルで設定。放電状態（RF入反射）も表示します。
主な特徴
特許取得のガス導入流量調整パイプとプラズマ着火方法
- クリーニング時間に関わらず真空容器内の圧力は変動しません。
- クリーニングプロセスの圧力は装置の仕様に応じて最適化され、事前協議の上で決定します。
安定したプラズマ生成
- 圧力が変動しないため、安定したプラズマを生成可能です。
- RFの反射量も一定で、均一なクリーニング効果を実現します。
ワンタッチ操作
- クリーニング条件（RF出力、クリーニング時間）を設定すれば、ワンタッチで処理が完了します。
- 操作が簡単なタッチパネルを搭載し、レシピ登録や使用状況の把握が容易です。
- RFのオン・オフは専用スイッチで簡単に操作可能です。
| CP-Plasner［型式：CPP-U01］ | |
|---|---|
| Head［型式：CPP-H01］ | |
| プラズマ方式 | 誘導結合プラズマ（ICP） |
| 大気導入機構 | ガス流量調整パイプ |
| クリーニング真空度 | 0.1〜2Paの範囲で設定（事前に調整） |
| 接続形状 | NW40 |
| 寸法 | W80mm×D120mm×H183mm |
| 質量 | 約1.8kg |
| Controller［型式：CPP-C01］ | |
| 操作方法 | タッチパネル、押し釦スイッチ |
| レシピ | RF、クリーニング時間を3種類保存可能 |
| 寸法 | W175mm×D140mm×H73mm |
| 質量 | 約1.0kg |
| RF Power Supply［型式：CPP-R01］ | |
| RF出力 | 〜45W |
| 周波数 | 13.56MHz |
| 電源 | AC100V単相6A 電源ケーブル2m |
| 寸法 | W206mm×D260mm×H111mm |
| 質量 | 約3.0kg |