プラズマクリーナー

半導体業界の未来を開くプラズマクリーニング

CP-Plasner®は、13.56MHzの高周波を利用してプラズマを発生させ、電子顕微鏡などの表面観察・分析装置における真空チャンバー内のカーボンコンタミを除去する装置です。
2つの特許技術により真空チャンバー内の圧力安定化を実現し、ボタンひとつで簡単に操作できる手軽さと低価格を両立しました。

特許取得のガス導入流量調整パイプとプラズマ着火方法を採用することで、クリーニング時間によらず（長時間にわたって）真空容器内の圧力は変動しません。なお、クリーニングプロセスの圧力は処理する装置の仕様等で変わってくるためお客様と事前協議のうえで所定の圧力に最適化したガス導入流量調整パイプを決定します。
クリーニングプロセス中に圧力が変動しないため、安定したプラズマを生成することが可能です。
また圧力に変化がないため、RFの反射量も変動しません。
プラズマ着火前にクリーニング条件（RF出力、クリーニング時間）を設定しておけば、ワンタッチ動作で処理が完了するまでのプロセスを遂行します。
コントローラーにはタッチパネルを採用し簡単なレシピ登録や使用状況を把握できるようにしています。
またRFのオン、OFFは単独で押し釦スイッチを設けているため簡単に操作が可能です。

CP-Plasner紹介動画